Физические основы электронной техники (ФОЭТ)
- Для комментирования войдите или зарегистрируйтесь
Все варианты прорешены
Контрольные вопросы
- Чем обусловлены диффузионная и барьерная емкости р-n перехода?
- В чем трудность получения идеального омического контакта?
- Почему лавинный пробой возникает при больших напряжениях, чем туннельный, в то время как критическая напряженность электрического поля лавинного пробоя меньше? Как изменяются величины Uпр обоих типов пробоя от температуры? Почему?
- Начертите и объясните зависимости обратного тока р-n перехода (диода) от обратного напряжения для следующих условий: а) германиевый р-n переход, толстая база; б) германиевый р-n переход, тонкая база; в) кремниевый р-n переход, толстая база; г) кремниевый р-n переход, тонкая база.
- Как изменяются частотные свойства р-n перехода с увеличением температуры при работе с высоким и малым уровнями инжекции? Почему?
- Объясните, почему даже при равенстве площадей эмиттера и коллектора биполярный транзистор нельзя считать полностью обратимым прибором.
- Каково соотношение между величинами обратных токов биполярного транзистора IКБО, IКЭО, IКБК ? Почему?
- Определите h-параметры по статистическим характеристикам биполярных транзисторов.
- Напишите выражения для коэффициентов передачи тока эмиттера и коллектора одномерной теоретической модели транзистора. Что такое эффективность эмиттера и каковы пути ее увеличения?
- Опишите основные статистические параметры биполярного транзистора для трех областей его работы: отсечки, насыщения и активной.
- Объясните характер зависимости h21 от температуры. В какой схеме включения транзистора с общей базой или с общим эмиттером этот параметр в большей степени зависит от температуры и почему?
- Предположим, что площади эмиттера и коллектора равны. Какая из барьерных емкостей этих переходов больше и почему? Какая из этих емкостей сильнее влияет на работу транзистора и почему?
- Объясните, что такое предельная и граничная частоты усиления по току и максимальная частота генерации. Каково соотношение между их величинами? Каковы пути их повышения?
- Определите коэффициент инжекции, коэффициент переноса носителей через базу и коэффициент передачи тока для нормального и инверсного включения транзистора.
- Объясните график зависимости коэффициента передачи тока базы от тока эмиттера.
- Опишите преимущества и недостатки дрейфового транзистора (по сравнению с бездрейфовым).
- Используя энергетические диаграммы МДП-структур, объясните принцип работы р-канального МДП-транзистора с индуцированным каналом.
- Опишите эффект Эрли и два его следствия.
- В чем причина оттеснения тока эмиттера на край эмиттера? Как "борются" с этим эффектом?
- Почему время включения транзистора в схеме ОЭ в (βN+1) больше, чем в схеме ОБ?
- Что произойдет с величиной частоты отсечки (граничной частотой) биполярного транзистора при значительном увеличении плотности эмиттерного тока?
- Опишите особенности работы полевых транзисторов (по сравнению с биполярными): управление, частотные свойства, технологичность, экономичность.
- Как изменится величина частоты отсечки (граничной частоты) биполярного транзистора при переходе его работы в микрорежим?
- Опишите составляющие базового тока биполярного транзистора, дайте их определение и укажите на возможные пути уменьшения величины базового тока.
- Как изменятся величина порогового напряжения короткоканального МОП-транзистора по отношению к длинноканальному из-за близости ОПЗ стока и истока?
- Виды пробоя МОП-транзисторов. В чем заключаются особенности пробоя короткоканального МОП-транзистора?
- Какое свойство диода Шоттки используется в транзисторах Шоттки и в мощных диодах Шоттки, используемых в блоках питания?
- Почему пиковый ток туннельного диода слабо зависит от температуры?
- Какие методы используются для уменьшения коэффициента передачи тока транзисторных структур, составляющих тиристор?
- Почему на прямой ветви ВАХ тиристора наблюдается участок отрицательного дифференциального сопротивления?
31. Как объяснить график зависимости величины концентрации свободных
носителей заряда от обратной температуры?
32. Что такое эффект Холла?
33. Как связаны между собой параметры “подвижность” и “ рассеяние”
свободных носителей заряда?
34. Что такое дрейф и диффузия носителей заряда?
35. Что такое уровень Ферми?
36. Из каких соображений твёрдые тела подразделяются на металлы,
диэлектрики и полупроводники?
37. Что такое туннельный эффект?
38. Каким образом на пластине собственного кремния можно получить n- или p-
полупроводник?
39. Что такое индексы Миллера?
40. Какие основные уравнения используются для анализа работы
полупроводниковых приборов?
41. Почему в биполярных транзисторах с широкозонным эмиттером можно
получить большую величину коэффициента инжекции эмиттера при
одинаковой концентрации примесей в эмиттере и базе?
42. Как измениться величина потенциального барьера p-n перехода при
изменении температуры и типа полупроводника? Почему?
43. Как и какими путями возникают токи генерации и рекомбинации при
обратном и прямом смещениях p-n перехода?
44. Зависит ли величина τвост. от величины прямого тока, протекающего через p-
n переход? Почему?
45. Как объяснить зависимость величины коэффициента передачи тока
эмиттера от величины тока эмиттера (коллектора)?
46 Можно ли считать биполярный транзистор обратимым прибором? Если нет,
то почему?
47. Почему Uкэо намного меньше Uкбо?
48. Почему использование диода Шоттки в ТТЛ ИС намного уменьшает время
задержки на вентиль?
49. Почему гребенчатая структура топологии эффективна в мощных
биполярных структурах?
50. От чего зависит величина напряжения смыкания биполярного транзистора?
51. От каких геометрических и электрофизических параметров МОП-транзистора
зависит величина напряжения сквозного обеднения?
52. Как изменяет величину порогового напряжения короткоканального МОП-
транзистора эффект горячих электронов?
53. Что такое «эффект Кирка», и как он влияет на параметры n+-p--n+
транзистора?
54. Что такое «эффект Кирка», и как он влияет на параметры n+-p-n+
транзистора?
55. Как зависит добротность варикапа от частоты?
56. Почему при использовании структуры overlay в мощных биполярных
транзисторах к эмиттерным полоскам подключают поликремниевые
резисторы?
57. Для чего в стоковую область мощных МОП-транзисторов вводится n-область?
58. Почему гребенчатая структура неэффективна в СВЧ-транзисторах? Какие
структуры применяют в этом диапазоне?
59. Какими способами можно повысить коэффициент усиления по току в мощных
транзисторах?
60. Какими способами можно повысить напряжение лавинного пробоя p-n
перехода?
- Для комментирования войдите или зарегистрируйтесь
Условия и алгоритмы решения задач
1. Условие задач, имеющих номера 1 - 10
Рассчитать контактную разность потенциалов и барьерную ёмкость резкого p-n перехода с площадью S=10-3 см2 и следующими параметрами:
Таблица 2 – Данные к задачам
Материал
Приложенное
напряжение,В
Темпера- тура, К
Концентрация легирующей примеси в p-области Na, см-3
Концентрация легирующей примеси в n-области Nd, см-3
Вари-ант
Кремний
0
300
1018
1016
1
Арсенид галлия
0
200
1018
1016
2
Германий
0
300
1017
1016
3
Кремний
-2
200
1017
1017
4
Арсенид галлия
-2
300
1018
1016
5
Германий
-1
400
1018
1016
6
Кремний
-5
400
1019
1017
7
Арсенид галлия
0,02
300
1018
1018
8
Германий
0,02
200
1017
1018
9
Кремний
0,02
400
1016
1018
10
2. Условие задач, имеющих номера 11 - 19
Рассчитать диффузионную ёмкость p-n перехода с площадью S=10-3 см2 и со следующими параметрами:
Таблица 3 – Данные к задачам
Материал
Концентрация
легирующей
примеси в n-области Nd, см-3
Концентрация
легирующей
примеси в p-области Nа, см-3
Приложенное
прямое напряжение
U, В
Ширина
n-области,
мкм
Ширина
p-области,
мкм
Время
жизни
электронов
τn, c
Время
жизни
дырок
τp, c
Темпера-тура, K
Вариант
Кремний
1018
1016
0,61
1
1
10-7
10-6
300
11
Германий
1018
1016
0, 3
1
1
10-7
10-6
300
12
Кремний
1016
1017
0, 63
2
2
10-7
10-6
400
13
Кремний
1019
1016
0, 42
1
0,5
10-8
10-6
300
14
Арсенид
галлия
1018
1016
0, 8
1
1
300
15
Кремний
1017
1016
0, 65
1
1
10-7
10-6
400
16
Арсенид
галлия
1017
1018
0,82
1
1
300
17
Кремний
1017
1016
0, 68
1
0,5
10-7
10-6
300
18
Арсенид
галлия
1016
1016
0, 83
1
1
19
Кремний
1016
1018
0, 65
1,5
1
10-7
10-6
300
20
3. Условие задач, имеющих номера с 21 по 27
Рассчитать величины токов инжекции, генерации и рекомбинации p-n перехода (диода) площадью 10-3 см2 и со следующими параметрами:
Таблица 4 – Данные к задачам
Материал
Концентрация легирующей примеси
Время жизни
неосновных носителей
Ширина базы WБ, мкм
Ширина эмиттера WЭ, мкм
Приложенное
напряжение
U, В
Темпера-тура, K
Вариант
в
n-области Nd, см-3
в
р-области
Nа, см-3
τn,с
τp,с
Кремний
1018
1016
5*10-6
10-6
1
2
0,2
300
21
Германий
1018
1016
5*10-6
10-6
1
2
0,2
300
22
Арсенид
галлия
1018
1016
5*10-6
10-6
1
2
0,2
300
23
Кремний
1016
1018
10-6
10-5
10
2
0,5
300
24
Арсенид
галлия
1016
1018
2*10-6
3*10-5
10
2
0,5
300
25
Кремний
1017
1016
10-6
10-5
1
2
0,3
400
26
Германий
1016
1017
10-6
10-5
1
2
0,3
400
27
4.Условие задач, имеющих номера с 28 по 36
Рассчитать коэффициент передачи постоянных токов эмиттера αN, базы βN, коллектора αI идеализированной модели биполярного n-p-n транзистора.
Материал
Темпера-тура, K
Ширина, мкм
Концентрация легирующей примеси, см-3
Время жизни электронов
в базе τn,с
Вариант
Эмиттера WЭ, мкм
Коллектора
WК, мкм
Базы WБ, мкм
В эмиттере
Ndэ
В базе
NdБ
В коллекторе
Ndк
Кремний
400
2
4
1
1018
1016
1016
10-6
28
Германий
300
2
4
1
1018
1016
1016
5*10-7
29
Арсенид
галлия
400
2
4
1
1018
1016
1016
10-6
30
Кремний
300
2
2
1
1018
1017
1016
10-6
31
Кремний
200
2
2
0,5
1018
1016
1017
10-6
32
Германий
300
2
2
1
1018
1016
1017
5*10-6
33
Арсенид
галлия
400
2
2
0,5
1018
1017
1016
10-6
34
Кремний
300
2
3
0,3
1018
1017
1016
10-6
35
Арсенид
галлия
300
2
3
0,3
1018
1017
1018
10-6
36
5. Условие задач, имеющих номера с 37 по 50
Рассчитать величину порогового напряжения Uпор и частоту отсечки кремниевых МОП – транзисторов со следующими параметрами
Тип канала n или p
Тип
затво-ра
Толщина подзатвор-ного
диэлектрика d, нм
Концентрация примеси в подложке Nn, см-3
Плотность поверхност-ных состояний Nnс,
см-2
Длина
канала L, мкм
Напря-жение на затворе, Uзи
Эффективная подвижность носителей в канале µ, см2\В*с
Темпера-тура, К
Вариант
n
AL
70
1015
1010
3
Uзи=2Uпор
500
300
37
p
AL
70
1015
1010
2
Uзи=2Uпор
200
300
38
n
n-поли-кремний
70
1015
1010
3
Uзи=2Uпор
500
300
39
p
n-поли-кремний
50
1015
1010
4,5
Uзи=2Uпор
200
300
40
n
p-поли-кремний
50
5*1015
1010
1,5
Uзи=2Uпор
500
300
41
p
p-поли-кремний
60
1015
1010
2
Uзи=2Uпор
220
300
42
n
AL
50
5*1015
1010
4,5
Uзи=3Uпор
500
300
43
p
AL
50
5*1015
5*1010
2
Uзи=2Uпор
200
300
44
n
n-поли-кремний
40
5*1015
1010
1,5
Uзи=2Uпор
500
300
45
p
p-поли-кремний
40
1016
5*1010
2
Uзи=2Uпор
220
300
46
n
p-поли-кремний
40
5*1015
1010
5
Uзи=2Uпор
500
400
47
p
n-поли-кремний
40
1016
1010
4
Uзи=2Uпор
200
400
48
n
AL
50
1015
1010
4
Uзи=2Uпор
500
400
49
p
AL
40
1015
1010
4
Uзи=2Uпор
200
400
50
6. Условие задач, имеющих номера 51-60
Рассчитать минимальную длину lk и ширину Z канала n-канального кремниевого мощного СВЧ V-МОП транзистора, имеющего следующие параметры
Выходная мощность,
Р1 Вт
Подвижность носителей в канале µno, см2/В.с
Плотность поверхностных состояний Nnc,
См-2
Толщина подзатворного диэлектрика, d нм
Тип затвора
Концентрация примесей в подложке Na, см-3
Темпе-
ратура
τ, оС
Напряже
ние на
затворе
Uзи, В
Максимальное напряжение сток - исток
Uси max, В
Вариант
80
600
1010
50
AL
5.1015
300
4
65
51
85
650
2.1010
60
n-поликремний
1015
400
2
70
52
75
600
9.109
45
AL
1015
300
3
65
53
80
650
1010
60
AL
5.1015
350
2
70
54
75
600
1010
75
p-поликремний
1015
250
3
75
55
85
620
1010
70
AL
5.1015
400
4
65
56
80
600
1010
60
n-поликремний
1015
350
3
75
57
75
600
1010
50
р-поликремний
1015
300
3
70
58
80
600
1010
55
AL
1015
350
4
65
59
85
600
1010
45
AL
5.1015
300
3
70
60